Preface
简单来说，LIB/LEF/DEF 为一种包含特定信息的，供 EDA 工具使用的文件格式。
这篇文章将讨论：
- 这些文件的作用是什么？
- 为什么需要这些文件？
不会讨论：
- 文件细节，每个字段含义
LIB
Timing Library Format
描述标准单元 timing 和 power 信息的 .lib 文件。
如：delay time(input到output的时间)、transition time(讯号在改变过程(ex: 0 → 1)中花的时间)、requirement of setup time(讯号到来之前要维持稳定的时间，才能保证讯号有被正确接收)、requirement of hold time(讯号进入之后要维持稳定的时间，才能保证往下一层传是正确的)。
LEF
wiki: Library Exchange Format
在集成电路设计中，库交换格式（LEF）是一种规范，用于以ASCII格式表示集成电路的物理布局。它包括设计规则和标准单元的抽象信息。
LEF 仅包含该级别所需的基本信息，以满足相关 CAD 工具的目的。它只提供抽象视图，因此内存开销较少，有助于节省宝贵的资源。LEF 与 Design Exchange Format (DEF) 结合使用，可在设计过程中表示集成电路的完整物理布局。
对 LEF 的一种通俗理解：
LEF描述单元的物理属性，包含大小、端口位置、各层定义、通孔定义等，简单想成这个单元的外框，要跟别的单元能够互相连接的那些讯息，至于里面有什么内容先不管。LEF包含的资讯大概可以这么理解：A大楼建地200坪共10层楼高，一楼有5个出入口，五楼有保留天桥空间，顶楼有空中花园，B大楼建地200坪共15层楼高，一楼有8个出入口，同样在五楼有保留天桥空间，顶楼有空中花园，两栋地下室停车场完全相连共用。
根据 Wikipedia 描述，可知 LEF 分类为包含设计规则的 Tech LEF 和包含标准单元抽象信息的 Cell LEF
Tech LEF
Tech LEF 是描述工艺技术规则的文件，提供制造工艺相关的物理设计约束和参数。
- 作用：定义芯片设计中可用的层、规则和布线资源。
- 内容：
- 图层信息：定义金属层、过孔层、掩膜层等（如宽度、高度、间距）。
- 设计规则：约束设计器的布线、间距、密度等要求。
- 工艺属性：电阻、电容等层属性参数。
- 应用：提供 P&R 工具进行设计规则检查（DRC）、布线规划和寄生参数提取。
Cell LEF
Cell LEF 是描述标准单元的抽象物理布局信息的文件，用于指导 P&R 工具的布局与布线。
- 作用：定义每个单元的尺寸、引脚位置及其金属层映射。
- 内容：
- 单元边界：单元的宽度、高度。
- 引脚位置：引脚的坐标和金属层。
- 阻挡层（Obstruction）：限制布线区域。
- 功耗引脚：如 VDD 和 GND 的位置。
- 应用：指导 P&R 工具进行单元放置、布线连接。
DEF
wiki: Design Exchange Format
设计交换格式（DEF）是一种开放式规范，用于以ASCII格式表示集成电路的物理布局。它表示网表和电路布局。DEF 与 Library Exchange Format (LEF) 结合使用，可在设计过程中表示集成电路的完整物理布局。
主要作用
- 交换物理设计信息：在 EDA 工具间传递设计布局、布线和相关数据。
- 记录设计状态：从布局规划到完成布线，各阶段的物理设计信息。所以每个阶段的 DEF 信息不同，既可表示初步布局，也可表示完整布线。
DEF 与 LEF 的关系
- LEF 描述工艺规则和标准单元（逻辑层面）。
- DEF 描述特定设计的物理实现（实例化层面）。
为什么需要？
为什么需要 LIB 文件：提供标准单元的时序和功耗信息，支持 STA, Power 分析等工具的正常运行
如果没有 LEF/DEF：
1. 工艺规则约束缺失（无 LEF）
- 工具无法获取布线层定义、设计规则（如间距、宽度等）。
- 导致不符合工艺要求的设计，可能无法制造或导致高失败率。
2. 标准单元信息缺失（无 LEF）
- 工具无法识别单元尺寸和引脚位置，无法完成单元放置和布线。
- 导致布局阶段停滞。
3. 无法记录物理实现信息（无 DEF）
- 设计阶段的物理信息无法在工具间传递，跨工具协作受阻。
- 布局布线后的结果无法保存或复用，设计验证与迭代困难。
